Q. 포토 공정 실습

답변 6

• M

  Memory Department삼성전자

  코전무 ∙ 채택률 83% ∙

  회사

  일치

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  채택된 답변

  지원자님 포토 공정 실습 관련해서 정말 정확한 포인트를 짚으셨어요~ 실습 수준이든 실제 라인이든 “노광 시간”과 “습식 식각 시간”은 패턴 크기와 균일성에 바로 영향을 주는 핵심 변수입니다! 질문하신 3가지에 대해 실무 기준과 실습 기준을 잘 구분해서 설명드릴게요~ 우선 노광 시간은 패턴이 미세해질수록 정말 민감해져요~ 마이크로 단위(1~10 µm)에서도 노광 0.1~0.2초 차이만으로도 레지스트의 잔여 두께, 현상 속도, 최종 CD(Critical Dimension)에 차이가 날 수 있어요~ 실무에서는 nm 단위 패턴을 하니까 당연히 더 민감하지만, 실습환경에서도 마이크로 패턴이면 충분히 영향을 느낄 수 있습니다~ 이유는 포토레지스트는 빛을 일정량 이상 받아야 감광이 일어나기 때문에 Exposure Dose(=광세기 × 시간)이 기준보다 조금만 벗어나도 패턴 모양이 바뀌기 때문이에요! 그래서 실습에서도 노광 시간이 짧으면 언더(under exposure)로 패턴이 흐릿하게 나오고, 너무 길면 오버(over exposure)로 패턴이 두껍게 닳아 보입니다~ 실습 기준으로 보통 노광 시간은 3~10초 정도로 많이 설정돼요~ 이건 실습 장비(마스크 얼라이너)의 광량이 실제 생산용 스테퍼/스캐너보다 훨씬 약하기 때문이에요~ 실제 삼성/하이닉스 같은 라인에서는 노광 시간이 “수십 밀리초 수준”인데 실습에서는 초 단위로 늘어나는 게 정상이에요~ 실습 장비의 광강도(dose)가 낮아서 ‘같은 감광량을 얻기 위해 시간이 더 필요하다’고 보시면 돼요~ 습식 식각의 경우 실습에서는 보통 10~40초 사이로 많이 설정됩니다~ 식각액 종류(HF, BOE, 금속 식각액 등)에 따라 다르지만, 실습 wafer는 기판 두께나 산화막 두께가 얇아서 길게 담가두지 않아요~ 식각 속도가 생각보다 빠르고 과식각(over-etch)이 일어나면 패턴이 벌어지거나 마스크가 손상될 수 있기 때문이에요~ 예를 들면 SiO2를 BOE로 식각하는 경우 실험실 기준 식각률이 80~120 nm/min 정도라서 몇십 초에 수 nm~수십 nm가 바로 깎입니다~ 그래서 실습에서는 “10초 식각 → 물로 린스 → 현미경 확인” 같은 방식으로 짧게 반복하는 경우가 많습니다~ 정리하면, 실습이라고 해서 대충해도 되는 게 아니라 오히려 장비가 단순한 만큼 시간 변수를 더 정확히 잡아야 예쁜 패턴이 나오는 구조예요~ 마이크로 패턴에서도 변화가 확실하게 보이기 때문에 ‘노광 시간과 식각 시간을 다루는 감각’을 익히면 나중에 공정기술 직무 말할 때 굉장히 큰 강점이 됩니다! 도움이 되셨다면 채택 부탁드려요~ 응원합니다~!

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• 생

  생일파티하는도시락KEC

  코사원 ∙ 채택률 0% ∙

  직무

  일치

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  1. 마이크로 단위의 Pattern에서도 노광 시간은 CD 측면에서 중요한 변수로 작용합니다. 2. Mask 또는 Reticle의 Open Ratio, 노광 설비의 Condition에 따라 달라질 것으로 예상합니다. 3. 상기 답변과 같이, 상부 PR 또는 Hard Mask의 Open Ratio에 따라 달라질 것입니다.

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• d

  dev.jelly삼성전자

  코상무 ∙ 채택률 49% ∙

  회사

  일치

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  나 미세패턴일수록 되게 중요한 펙터인게 맞습니다

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• 황

  황금파이프삼성전자

  코부사장 ∙ 채택률 77% ∙

  회사

  직무

  일치

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  1. 네 그럼요. 마이크로 단위라고 해도 노광 시간이 중요한 변수입니다. 물론 나노미터의 패턴보다는 공정 마진이 크겠지만 노광 시간은 중요 파라미터 중 하나입니다. 2. 어떤 설비/공정을 하는지에 따라 달라서 정확한 답변을 드리기는 어려울 것 같습니다. 중요한 것은 노광시간 그 자체보다 왜 그 노광시간을 갖게되는지가 더 중요합니다. 3. 2와 마찬가지입니다.

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• 탁

  탁기사삼성전자

  코사장 ∙ 채택률 78% ∙

  회사

  일치

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  1. 넵 포토나 에치 등등 수나노단위까지 정교하게 영향을 미치므로.. 0.xx nm로도 웨이퍼가 살고 죽고를 논쟁합니다 ㅜ 마이크로단위는 매우매우큽니다. 2. 이것은 공정 제품별로 다릅니다. 짧은건 1시간내도있지만 수시간 노광 하는 경우도 있습니다. 3. 식각은 보통 담그기보다는 건식플라즈마를 사용하게되는데 수분이나 10분대로 끝나는 경우가 많아 습식 식각의 경우에 담궈놓는데 공정실습별로 다르지만 1시간 이상은 담궈야 변화량을 볼수있을것같네요~

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• 흰

  흰수염치킨삼성전자

  코전무 ∙ 채택률 58% ∙

  회사

  직무

  일치

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  안녕하세요. 멘토 흰수염치킨입니다. 1)당연히 중요하죠 생산성도 그렇고 정해진 파라미터니까요 ㅎㅎ 2)실습은 모르겠네요.... 3)실습 진행하는 사람이 정하기 나름이에요 도움이 되었으면 좋겠네요. ^_^

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  댓글 1

  하

  하준23

  작성자

  2025.11.28

  노광시간에 대해 감이라도 잡고 싶은데 1초 수준에서 0.1초 단위로 바뀌는 정도인가요? 아니면 10초 수준에서 1초 단위로 변경하는 정도일까요?

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